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NMC 508系列 ICP刻蝕機(jī)是電感耦合高密度等離子體（Inductively Coupled Plasma, ICP）干法刻蝕機(jī)，具有高精度、高選擇性和高效率等特點(diǎn)。該設(shè)備廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造、微電子制造、光電子制造等領(lǐng)域，特別是在集成電路、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、光電子器件等制造過程中發(fā)揮著重要作用。
更新時(shí)間：2024-09-05
型號(hào)：NMC 508系列
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
瀏覽量：405
NMC 612G 12英寸金屬刻蝕機(jī)，可用于鋁、硅，氧化物、鉬、氧化銦錫等多種材料刻蝕。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：NMC 612G廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：696
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導(dǎo)體客戶端機(jī)臺(tái)裝機(jī)量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機(jī)臺(tái).可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術(shù)支持。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：HORIC L200 系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：486
Scaler HK430 熱原子層沉積系統(tǒng)，填孔能力以及良好的薄膜均勻性,腔室結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，具備良好的防酸腐蝕能力。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Scaler HK430廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：381
EPEE系列 等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) 單片和多片式架構(gòu)，滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求高效遠(yuǎn)程等離子體清洗系統(tǒng)，優(yōu)異的顆?？刂?滿足量產(chǎn)和研發(fā)客戶需求.
更新時(shí)間：2024-08-14型號(hào)：EPEE系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：428
eVictor系列 8英寸通用物理氣相沉積系統(tǒng)，加熱基座設(shè)計(jì)，具備良好的溫度均勻性，高溫厚鋁工藝連續(xù)作業(yè)無累溫。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：eVictor系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：390
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