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簡要描述：HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺.可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術支持。
產(chǎn)品型號：HORIC L200 系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商更新時間：2024-09-05訪 問 量： 467產(chǎn)品分類
Product Category詳細介紹
1. 產(chǎn)品概述
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 氣相沉積系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大,可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺。可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案.優(yōu)異的工藝技術支持。
2. 設備用途/原理
HORIC L200 系列 臥式 LPCVD 系統(tǒng)，半導體客戶端機臺裝機量大。可根據(jù)客戶需求配置多工藝組合的機臺。高可靠性、穩(wěn)定性 Higher reliability and stability。安全性能高：設備及所使用的元件符合國標和國際標準。可提供優(yōu)良成熟的 MES 系統(tǒng)解決方案。優(yōu)異的工藝技術支持。
3. 設備特點
晶圓尺寸 4、6、8 英寸，適用材料硅、碳化硅、硅基氮化鎵。適用工藝 氮化硅、氧化硅、多晶硅、摻雜多晶硅、磷硅玻璃、硼磷硅玻璃。適用域 科研、化合物半導體。
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