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當(dāng)前位置：首頁(yè) > 產(chǎn)品中心 > 半導(dǎo)體前道工藝設(shè)備 > 4 外延系統(tǒng)
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產(chǎn)品概述： 超高真空激光分子束外延薄膜沉積系統(tǒng)由真空腔室（外延室、進(jìn)樣室）、樣品傳遞機(jī)構(gòu)、樣品架、立式旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、基片加熱臺(tái)、抽氣系統(tǒng)、真空測(cè)量、工作氣路、電控系統(tǒng)、計(jì)算機(jī)控制等各部分組成。 設(shè)備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡(jiǎn)稱PLD)是新近發(fā)展起來的一項(xiàng)技術(shù)，繼20世紀(jì)80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導(dǎo)薄膜之后，它的優(yōu)點(diǎn)和潛力逐漸被人們認(rèn)識(shí)和重視。
更新時(shí)間：2024-09-05
型號(hào)：LMBE450
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
瀏覽量：436
MARS iCE120 多片碳化硅外延系統(tǒng)，產(chǎn)能大，6 英寸運(yùn)營(yíng)成本低,薄膜和厚膜外延兼容，工藝穩(wěn)定性高。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：MARS iCE120廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：357
Hesper I E430R 12英寸單片減壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場(chǎng)和加熱場(chǎng)設(shè)計(jì)提供優(yōu)良的工藝性能。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Hesper I E430R廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：428
Hesper E230A 12英寸單片常壓硅外延系統(tǒng)，優(yōu)異的氣流場(chǎng)和加熱場(chǎng)設(shè)計(jì)提供優(yōu)良的工藝性能。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Hesper E230A廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：673
Hesper Ⅱ E630R plus 12英寸減壓選擇性外延系統(tǒng)，多區(qū)紅外加熱協(xié)同激光微區(qū)補(bǔ)償，溫場(chǎng)均勻可控。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Hesper Ⅱ E630R plus廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：637
Esther/Eris 系列 8英寸單片常壓/減壓硅外延系統(tǒng)，傳輸系統(tǒng)和工藝模塊設(shè)計(jì)可兼容多種工藝用途，友好的人機(jī)交互和安全性設(shè)計(jì)保障系統(tǒng)穩(wěn)定、安全、高效，具有單腔和多腔兩種機(jī)型，可滿足不同客戶需求。
更新時(shí)間：2024-09-05型號(hào)：Esther/Eris 系列廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商瀏覽量：398
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