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Kurt J. Lesker Company® NANO 36™ 熱蒸發(fā)薄膜沉積系統(tǒng)是我們優(yōu)化的入門級沉積系統(tǒng)。我們的腔室設(shè)計特別適合手套箱集成。NANO 36 具有更高的功能和更小的占地面積，提供了實惠的價格點，同時保持了您期望從 KJLC 獲得的質(zhì)量。

用于高級研究的先進能力 Veeco 是原子層沉積 （ALD） 系統(tǒng)供應(yīng)商，為研究和工業(yè)提供全面的服務(wù)和多功能的交鑰匙系統(tǒng)，這些系統(tǒng)易于訪問、經(jīng)濟實惠且精確到原子尺度。薄膜沉積是我們的專長。我們的 Savannah® 系列薄膜沉積工具就是這些能力的例證。

Phoenix®系統(tǒng)經(jīng)過精心設(shè)計，可在從中試生產(chǎn)到工業(yè)級制造的任何制造環(huán)境中實現(xiàn)高吞吐量和最長的正常運行時間。技術(shù)人員和研究人員依靠 Phoenix® 在平面和 3D 基板上實現(xiàn)可重復、高精度的薄膜沉積。Phoenix®支持多達6條獨立的前驅(qū)體生產(chǎn)線，可根據(jù)您的薄膜需求提供固體、液體或氣體工藝化學成分。緊湊的占地面積和創(chuàng)新的設(shè)計使Phoenix®成為具有批量生產(chǎn)ALD要求的人們的實用選擇。

產(chǎn)品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等組成。 設(shè)備用途： 脈沖激光沉積(Pulsed Laser DeposiTION，簡稱PLD)是新近發(fā)展起來的一項技術(shù)，繼20世紀80年代末成功地制備出高臨界溫度的超導薄膜之后，它的優(yōu)點和潛力逐漸被人們認識和重視。該項技術(shù)在生成復雜的化合物薄膜方面得到了非常好的結(jié)果。

產(chǎn)品概述： 高真空脈沖激光濺射薄膜沉積系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺、抗氧化基片加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。 設(shè)備用途： 用于制備超導薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、超硬薄膜等。廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所進行薄膜材料的科研。

產(chǎn)品概述： 高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統(tǒng)可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質(zhì)保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩(wěn)定、模塊化結(jié)構(gòu)，采用可行軟件控制系統(tǒng)。 設(shè)備用途： 用于納米級單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、半導體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。