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這款紫外臭氧清洗機(jī)，集成嵌入式控制系統(tǒng)，人性化設(shè)計(jì)，便捷高效，質(zhì)量有保障，專業(yè)服務(wù)，是科研與實(shí)驗(yàn)的理想伙伴。

LEBO science的PT500真空等離子清洗機(jī)，作為Plasma Treatment Equipment，具備以下顯著特點(diǎn)： 設(shè)備小巧，操作便捷：采用一鍵式操控設(shè)計(jì)，便于在科研院所等實(shí)驗(yàn)環(huán)境中靈活使用。 環(huán)保無污染：使用過程中無環(huán)境污染，無需化學(xué)品消耗，且機(jī)臺(tái)本身不產(chǎn)生任何污染物。 高效清洗能力：能夠迅速達(dá)成所需的表面親水性，提升處理效率。 廣泛適用性與無損處理：應(yīng)用廣泛，對(duì)處理產(chǎn)品無損傷

SUSS MicroTec為熱門化合物半導(dǎo)體工藝專門設(shè)計(jì)了一款新型光刻平臺(tái)：MA100/150e Gen2掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)?；衔锇雽?dǎo)體工藝，是指諸如高亮發(fā)光二極管（HB-LEDs）、功率器件、RF-MEMS等方面的半導(dǎo)體應(yīng)用。MA100/150e Gen2具備高精度對(duì)準(zhǔn)功能，上至0.7µm的光刻分辨率，擁有為易碎、翹曲或透明晶圓片定制的傳載系統(tǒng)等強(qiáng)大功能和配置。

MA200 3代掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)專為大批量生產(chǎn)而設(shè)計(jì)，適用于200毫米以下晶圓和方形襯底的自動(dòng)化加工。本系統(tǒng)集全場(chǎng)光刻技術(shù)與多種創(chuàng)新功能于一身。使其成為眾多應(yīng)用的優(yōu)秀系統(tǒng)，例如生產(chǎn)厚膠工藝MEMS、有凹凸圖形的 3D 結(jié)構(gòu)以及先進(jìn)封裝應(yīng)用，如3D封裝、扇出封裝、凸點(diǎn)封裝及化合物半導(dǎo)體和圖像傳感器。

ELS-HAYATE是由ELIONIX研發(fā)的超高吞吐量電子束光刻機(jī)，提供業(yè)界大的 5 毫米偏轉(zhuǎn)。非常適合需要關(guān)注字段間拼接錯(cuò)誤的應(yīng)用。

ELS-BODEN是由ELIONIX開發(fā)的電子束光刻機(jī)，非常適合研究和開發(fā)！支持從高清繪圖到大電流高速繪圖的廣泛應(yīng)用。