金屬化學(xué)氣相沉積MOCVD

簡(jiǎn)要描述：用于 5G、光子學(xué)和 CMOS 的 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng)
全自動(dòng)單晶圓簇系統(tǒng)可在 300 毫米基板上生產(chǎn) 5G 射頻、光子學(xué)和高級(jí) CMOS 器件。

產(chǎn)品型號(hào)：Propel 300mm GaN
廠商性質(zhì)：經(jīng)銷商
更新時(shí)間：2024-08-13
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Propel™ 300mm全自動(dòng)單晶圓簇系統(tǒng)是經(jīng)過(guò)行業(yè)驗(yàn)證的GaN MOCVD工具，能夠在300mm襯底上生產(chǎn)5G RF、Photonic和先進(jìn)的CMOS器件。

Propel 300mm 系統(tǒng)采用單晶圓反應(yīng)器平臺(tái)，能夠在 300mm 晶圓上生產(chǎn)的高質(zhì)量外延膜，具有出色的均勻性、可重復(fù)性和產(chǎn)量。Propel 300mm 系統(tǒng)可配置多達(dá) 3 個(gè)模塊化集群室，并提供自動(dòng)化的膜包到膜包處理，以實(shí)現(xiàn)最大的靈活性和生產(chǎn)率。

單晶圓反應(yīng)器基于 Veeco TurboDisc® 設(shè)計(jì)，包括 IsoFlange™ 和 SymmHeat™ 技術(shù)，可在整個(gè)晶圓上提供層流和均勻的溫度分布。客戶可以輕松地將工藝從 Veeco 單晶圓反應(yīng)器 Propel 和 Propel HVM 系統(tǒng)轉(zhuǎn)移到 Propel 300mm GaN MOCVD 系統(tǒng)，以便快速開(kāi)發(fā)到生產(chǎn)。

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