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當前位置:首頁  >  產(chǎn)品中心  >  半導體前道工藝設備  >  1 光刻設備  >  UV Litho-ACA無掩膜光刻機

無掩膜光刻機

簡要描述:ACA系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機,其基于空間光調(diào)制技術,實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源,設備穩(wěn)定,上手簡單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設備為科研工作提供了強大的支持,助力科學研究領域的發(fā)展和創(chuàng)新。

  • 產(chǎn)品型號:UV Litho-ACA
  • 廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
  • 更新時間:2024-09-04
  • 訪  問  量: 406

詳細介紹

1. 產(chǎn)品概述

ACA無掩膜光刻機系列是科研版的無掩膜版紫外光刻機,其基于空間光調(diào)制技術,實現(xiàn)了數(shù)字掩膜光刻,靈活性使其成為科學研究。設備搭載長壽命、高功率的紫外光源,設備穩(wěn)定,上手簡單。其的原位光繪和交互式套刻指引功能,讓光刻和套刻更加容易和精準。ACA系列設備為科研工作提供了強大的支持,助力科學研究域的發(fā)展和創(chuàng)新。

2. 特色參數(shù)

特征尺寸0.8μm

6英寸光刻面積

高精度步進光刻

無掩膜光刻機

3. 應用案例

微流道芯片

二維材料電

光學掩膜版

MEMS器件

灰度光刻

4. 公司簡介

托托科技(蘇州)有限公司是一家注于顯微光學加工和顯微光學檢測域的公司,在基于數(shù)字微鏡器件的無掩膜光刻技術域中進行了數(shù)年的深入研究和技術積累,其研制和生產(chǎn)的無掩膜紫外光刻機一經(jīng)問世,就受到了諸多客戶的青睞,在科研和工業(yè)域都有廣泛的應用。例如,在微納加工域,可以用于制作MEMS器件、微流控芯片、微型傳感器等;在光電子域,可以用于制作光柵、衍射光學元件等。
  托托科技致力于設備底層技術的研究和積累,不斷尋求技術的突破,努力為客戶帶來更好的設備和更好的使用體驗,幫助客戶創(chuàng)造更高的價值。



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