1. 產(chǎn)品概述

RIE-200C是在擁有豐富交貨業(yè)績(jī)的CCP RIE系統(tǒng) "RIE-10NR "的基礎(chǔ)上開發(fā)的量產(chǎn)型盒式裝載系統(tǒng)。該系統(tǒng)可對(duì)Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜進(jìn)行高精度蝕刻和灰化。采用雙盒雙臂機(jī)械手，PLC控制全自動(dòng)操作，高性能存儲(chǔ)工藝參數(shù)，實(shí)現(xiàn)了高產(chǎn)量。

2. 設(shè)備用途/原理

Si、Poly-Si、SiO?、SiN等各種硅薄膜的高精度蝕刻。光阻劑的灰化、剝離、除塵，清除有機(jī)污染物。

3. 設(shè)備特點(diǎn)

大氣高速傳輸系統(tǒng)，該系統(tǒng)配備了一個(gè)大氣盒室和一個(gè)大氣傳輸機(jī)器人，而不是通常的裝載鎖定室。它可以處理大?8 "晶圓的自動(dòng)加工，并且可以安裝在兩個(gè)盒式箱中。全自動(dòng)操作，通過觸摸屏可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)操作，通過PLC控制可實(shí)現(xiàn)過程管理和數(shù)據(jù)記錄。