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KS-CM300/200 單片式化學(xué)清洗機(jī)適用于沉積前清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、CMP后清洗等多種前段工藝（FEOL）和后段工藝（BEOL）清洗進(jìn)程，可適配高溫SPM工藝，工藝覆蓋率達(dá)80%以上；搭載獨(dú)立開發(fā)的新一代高清洗效率低損傷射流噴嘴，潔凈度達(dá)到先進(jìn)制程所需水平。

UV-300HC紫外線臭氧清洗設(shè)備是一款高性能的盒式裝載UV臭氧清洗機(jī)，用于生產(chǎn)。這個行業(yè)先的系統(tǒng)有2個裝載盒，可以達(dá)到200-300nm/min的高灰化率。該系統(tǒng)利用紫外線照射、高濃度臭氧和可控階段加熱的組合，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、SiC、GaAs和InP）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。

UV-300H是一款高性能的緊湊型紫外線臭氧清洗機(jī)。通過滑動抽屜將基材裝入系統(tǒng)中。紫外線照射、高濃度臭氧和階段性加熱的組合，可溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、SiC、GaAs、InP）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。

UV-1是一款緊湊型臺式紫外線臭氧清洗機(jī)。該系統(tǒng)將紫外線照射、臭氧和平臺加熱結(jié)合在一起，溫和而有效地去除硅、玻璃、化合物半導(dǎo)體（GaN、GaAs、InP、SiC）、藍(lán)寶石、陶瓷等各種基材上的有機(jī)物。

PC-300等離子清洗設(shè)備是一種平行板式等離子清洗機(jī)，用于清洗樣品表面的有機(jī)和無機(jī)污染。 該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從研究到小批量生產(chǎn)的各種產(chǎn)品的批量處理。

PC-1100是一種平行板式等離子清洗機(jī)，用于清洗樣品表面的有機(jī)和無機(jī)污染。 該工藝室允許用戶安裝多個電架，架式電配置的靈活性支持從小型電子元件到大型基板等多種產(chǎn)品的批量處理。