CMP后清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述：GNP CLEANER-412R型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~12“)晶圓。

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詳細(xì)介紹

1. 基本參數(shù)

適用晶圓尺寸:100mm(4") ~ 300mm(12")

配置:輸入噴淋清洗，兩個(gè)雙面刷清洗和旋轉(zhuǎn)漂洗干燥(可選:分離QDR)

清洗機(jī)尺寸:1610w 1260d 1640hmm電刷尺寸:070(外徑)031(內(nèi)徑)170(長(zhǎng))毫米

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗

輥刷工位

化學(xué)：nh4oh或DIW

刷頭型式:PVA刷頭，可同時(shí)清洗晶圓片的正反面

刷位調(diào)節(jié):手動(dòng)控制(可用刷隙范圍:-10mm ~ 2mm)

轉(zhuǎn)速:<滿量程的±5%范圍30 ~ 400rpm

化學(xué)品供應(yīng):4個(gè)噴嘴和通過(guò)毛刷

可用化學(xué)品:2個(gè)化學(xué)品[NH4OH]

化學(xué)和DI流量:<滿量程的±5%。

轉(zhuǎn)站

選項(xiàng):超高速掃描

旋轉(zhuǎn)速度:最高2500轉(zhuǎn)/分DI漂洗/ N2吹

控制工藝流程:手動(dòng)加載，自動(dòng)順序，濕/干液晶觸摸屏顯示器，程序控制PLC式。

產(chǎn)品咨詢

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