CMP后清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述：GNP CLEANER-428L型CMP后清洗機(jī)集成了兩個(gè)雙刷站，設(shè)計(jì)緊湊，占地面積小，可清洗(4“~8“)晶圓。

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詳細(xì)介紹

1. 產(chǎn)品概述：

適用晶圓尺寸:100mm(4) ~ 200mm(8")

配置:獨(dú)立配置4個(gè)清洗工位用DIW噴霧預(yù)清洗兩個(gè)雙面滾刷清洗用氮?dú)獯蹈尚D(zhuǎn)漂洗

清潔器尺寸:1800 w 970D 1500 hmm

電刷尺寸:038(OD) 018(ID) 310(L)mm

預(yù)清洗工位:DIW噴霧清洗，工位間DIW帷幕清洗輥刷工位

化學(xué):2個(gè)化學(xué)泵(每個(gè)刷室1個(gè))，NH4OH(< 0.1wt%)或DIW

刷型:雙面PVA刷刷位調(diào)節(jié):手動(dòng)控制(可用刷隙范圍:-1.5mm ~ 2mm)

轉(zhuǎn)速:<滿量程的2%

范圍30 ~ 400rpm

化學(xué)品流量:滿量程< 1L/min

DI流量:滿量程< 5L/min

旋轉(zhuǎn)速度:高2500轉(zhuǎn)/分DIW沖洗/ N2吹掃/強(qiáng)掃

控制工藝:噴淋清洗/雙面刷清洗/旋漂干洗/濕洗/干洗

程序控制:PC & PC觸摸監(jiān)控，程序可編程，計(jì)算機(jī)網(wǎng)絡(luò)可比

產(chǎn)品咨詢

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